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J-GLOBAL ID：200903014060601263
微小構造体の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
平田 忠雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997182858
Publication number (International publication number)：1999028768
Application date： Jul. 08, 1997
Publication date： Feb. 02, 1999
Summary：
【要約】【課題】 薄膜パターンをステージに確実に接合させることができ、転写率を高めることができる微小構造体の製造方法を提供すること。【解決手段】 基板100を薄膜パターン1Aが形成された領域以外の部分でエッチバックして凹部103Bを形成し、基板100の突出部103A上に形成された薄膜パターン1Aをステージ202の表面に接触させる、或いは基板100の表面に緩衝層(離型層)106を形成し、緩衝層(離型層)106上に形成された薄膜パターン1Aをステージ202の表面に接触させるようにした。
Claim (excerpt)：
基板上に所定の2次元パターンを有する複数の薄膜を形成する第1の工程と、前記基板を前記複数の薄膜が形成された領域以外の部分で所定の深さエッチバックして凹部を形成する第2の工程と、前記複数の薄膜を前記基板上から剥離し、ステージ上に前記複数の薄膜を積層して接合させて微小構造体を形成する第3の工程を含むことを特徴とする微小構造体の製造方法。
IPC (2)：
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