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J-GLOBAL ID:200903014077178240
物品の処理方法及び装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 永坂 友康
, 西山 雅也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003331811
Publication number (International publication number):2004268019
Application date: Sep. 24, 2003
Publication date: Sep. 30, 2004
Summary:
【課題】処理中に超音波エネルギーを適用しながら処理室において物品を高密度の処理流体で処理するための方法の提供。【解決手段】高密度の処理流体は、別の昇圧容器において生成させて処理室へ移送してもよく、あるいは処理室で直接生成させてもよい。処理剤を、昇圧容器へ、処理室へ、又は昇圧容器から処理室へ移送する間の高密度流体へ、加えることができる。超音波エネルギーは、一定周波数又は可変周波数で連続的に発生させることができる。あるいは、超音波エネルギーは断続的に発生させてもよい。【選択図】図3
Claim (excerpt):
物品を処理するための方法であって、
(a)当該物品をシールできる処理室へ導入してこの処理室をシールすること、
(b)高密度の流体を、(b1)臨界未満の流体を昇圧容器へ導入しそして当該容器を隔離することと、(b2)当該臨界未満の流体を本質的に一定の容積且つ本質的に一定の密度で加熱して高密度の流体を得ること、により調製すること、
(c)当該昇圧容器から当該高密度の流体の少なくとも一部分を上記処理室へ移送し、この高密度流体の移送を当該昇圧容器の圧力と当該処理室の圧力との差により推進して、それにより当該処理室を移送した高密度流体で昇圧すること、
(d)1種以上の処理剤を上記処理室へ、(c)の前か、(c)の間か、(c)の後で導入して、高密度の処理流体を提供すること、
(e)上記処理室へ超音波エネルギーを導入し、そして上記物品を上記高密度の処理流体と接触させて、使用済みの高密度処理流体と処理した物品とを得ること、及び
(f)当該使用済みの高密度処理流体を当該処理した物品から分離すること、
を含む物品処理方法。
IPC (4):
B08B7/00
, B08B3/08
, B08B3/12
, H01L21/304
FI (5):
B08B7/00
, B08B3/08 B
, B08B3/12 A
, H01L21/304 642E
, H01L21/304 647Z
F-Term (13):
3B116AA01
, 3B116BB02
, 3B116BB82
, 3B116BB83
, 3B116BB90
, 3B116CD31
, 3B201AA01
, 3B201BB02
, 3B201BB82
, 3B201BB83
, 3B201BB90
, 3B201BB91
, 3B201CD36
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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超臨界流体を利用した洗浄装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-009442
Applicant:シャープ株式会社
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基板から汚染物を取り除く方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-010641
Applicant:テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
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