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J-GLOBAL ID:200903014091632655
光記録媒体の原盤製造法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998184006
Publication number (International publication number):2000021031
Application date: Jun. 30, 1998
Publication date: Jan. 21, 2000
Summary:
【要約】【課題】 回折限界以下のピッチの狭いトラックおよび微小なピットを有する高密度の原盤を製造することができる方法の提供。【解決手段】下記の工程を含んでなることを特徴とする、光記録媒体の原盤製造法。(a)基板上に感光性層を形成させる工程(b)前記感光性層の光照射側に禁制帯を有しており、光強度に応じて透過率が変化する超解像膜を形成させる工程、(c)感光性材料を像様に露光する工程、および(d)露光された感光性材料を現像する工程。
Claim (excerpt):
下記の工程を含んでなることを特徴とする、基板上に案内溝およびピットを形成させる光記録媒体の原盤製造法。(a)基板上に感光性物質を塗布して感光性層を形成させる工程(b)前記感光性層の光照射側に、光強度に応じて透過率が可逆的に変化する超解像膜を形成させる工程、(c)前記感光性層および前記超解像膜を具備してなる感光性材料を像様に露光する工程、および(d)露光された感光性材料を現像する工程。
F-Term (5):
5D121BB02
, 5D121BB04
, 5D121BB21
, 5D121BB28
, 5D121BB38
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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光ディスク原盤製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-089007
Applicant:日本電気株式会社
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光ディスク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-185041
Applicant:パイオニア株式会社
-
光ディスク用フォトレジスト
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-058050
Applicant:パイオニア株式会社
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