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J-GLOBAL ID：200903014091735373

固体表面処理装置及び処理方法、不動態膜形成装置及び方法、並びにプロセス装置

Inventor： 大見 忠弘
Applicant, Patent owner： 大見 忠弘
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994001302
Publication number (International publication number)：1995201812
Application date： Jan. 11, 1994
Publication date： Aug. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、基材のダメージを全く伴わず各種固体表面上に付着した酸化膜等の不純物を除去することが可能な固体表面処理装置及び処理方法、更に、耐食性、密着性、脱ガス特性の優れた不動態膜を形成する装置及び方法、並びに高清浄雰囲気を形成可能なプロセス装置を提供することを目的とする。【構成】 水素活性種生成手段と、試料室(または試料自体)と、該生成手段に水素ガスを含む不活性ガスを供給する手段と、前記生成手段で発生した水素活性種を前記試料室(または試料自体)に導入する手段と、前記試料室(または試料自体)を排気する手段と、から構成され、試料表面に水素活性種を照射し、該試料表面上の不純物を除去することを特徴とする。さらに、前記試料室(または試料自体)と接続された不動態膜形成用ガス供給手段を有し、該試料表面上の不純物を除去した後、不動態膜を形成することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

水素活性種を含むガスを固体表面に照射し、該固体表面上の不純物を取り除くことを特徴とする固体表面処理方法。