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J-GLOBAL ID：200903014105517692

走査電子顕微鏡法および臨界寸法測定機器のための電子ビーム線量制御

Inventor： リチャードソン,ネイル ,  アスカリー,ファリド ,  コンシナ,ステファノ イー. ,  モナハン,ケビン エム. ,  アドラー,デイビッド エル.
Applicant, Patent owner： クラ-テンコール コーポレイション
Agent (1)： 山本 秀策
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1998534525
Publication number (International publication number)：2001508592
Application date： Jan. 16, 1998
Publication date： Jun. 26, 2001
Summary：

【要約】走査フレームサイクル間でラスタ走査領域を調整することによって、画像標本上の電子露光を制御するためのシステムおよび方法である。小さいズームイン走査領域および周囲領域は、走査フレーム間で複数回のフレームサイクルの間に正の電荷でフラッドされることによって走査領域と周囲領域との間の電圧差分を減少させ、それによって走査された画像中の小さい特徴を不明確にする傾向にある正の電荷蓄積を減少させる。標本上の画素エレメントへのピーク電流は、通例の映像と比較すると非常に短いライン時間でビームを走査するによって低減される。画像データのフレームは、さらに、任意のプログラム可能パターンで非逐次的に獲得され得る。あるいは、非活性ガスは、電子ビームが標本に当たる点で走査電子顕微鏡に注入されて、電子ビームによる不活性ガスのイオン化によって標本上の電荷蓄積を中和化し得る。

Claim (excerpt)：

電子ビームを形成し、加速させ、集束し、標本の一部を横切って走査させるための電子源および装置を備える走査電子顕微鏡を用いて、該標本を画像化するための方法であって、該標本は、このように走査されると電荷が上に蓄積し、該方法は、 a.該標本の第1の小領域を含む該標本の第1の実質的に大きい領域を該電子ビームでラスタ走査するステップと、 b.該ステップaに続いて該標本の該第1の小領域を該電子ビームで個別にラスタ走査することによって、該第1の実質的に大きい領域を電子でフラッドする結果として該標本の該第1の小領域の画像を明るくするステップと、を包含する、方法。

IPC (2)：

H01J 37/147 ,  H01J 37/20

FI (2)：

H01J 37/147 B ,  H01J 37/20 H

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 走査型電子顕微鏡およびその観察方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-335986   Applicant：株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社, 株式会社日立サイエンスシステムズ
• 特開平2-295043
  
• 特開平2-295043
  
• 特開平2-295043