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J-GLOBAL ID：200903014123235173

射出成形方法及び射出成形品

Inventor： 田沼 陽一郎 ,  島川 雅成
Applicant, Patent owner： ジーイー東芝シリコーン株式会社
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999207558
Publication number (International publication number)：2001030284
Application date： Jul. 22, 1999
Publication date： Feb. 06, 2001
Summary：

【要約】【課題】材料の無駄が無く、工程上の無駄のない射出成形方法及び射出成形品を提供する。【解決手段】 インサート品1表面の被射出部周辺に処理剤としてシリコーンゴムプライマーを予め塗布し、こうして得たインサート品1を上側金型D1と,下側金型D2との間の所定の位置に装着する。この状態で金型内に射出材料を射出する。シリコーンゴムプライマーはインサート品1の被射出部上に弾性のあるプライマー層Pを形成するので、このプライマー層Pが上側金型D1の下表面とインサート品1上表面との間に形成される隙間の形に沿って変形し、この隙間を埋めるので、この隙間に射出材料が流れなくなり、バリの形成が防止される。

Claim (excerpt)：

金型内に基体を固定して前記基体の被射出部に射出材料を射出するインサート射出成形方法であって、前記基体の被射出部周辺に処理剤を塗布する工程と、前記基体を金型内に装着する工程と、前記金型内に射出材料を射出する工程と、を具備することを特徴とする射出成形方法。

IPC (4)：

B29C 45/00 ,  B29K707:04 ,  B29K709:02 ,  B29K709:08

F-Term (10)：

4F206AA33 ,  4F206AD03 ,  4F206AD04 ,  4F206AD05 ,  4F206AD34 ,  4F206AM33 ,  4F206JA07 ,  4F206JB12 ,  4F206JF05 ,  4F206JQ81