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J-GLOBAL ID：200903014124903269

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： 上谷 保則 ,  井上 博貴
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999315265
Publication number (International publication number)：2000275845
Application date： Nov. 05, 1999
Publication date： Oct. 06, 2000
Summary：

【要約】【課題】 感度や解像度、基板への接着性などの各種レジスト性能が良好であるとともに、塩基性基板や低反射基板に適用した場合でも基板依存性が小さく、いずれの基板に対しても良好なプロファイルを与える化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 下式(I)(式中 、R1 は水素又はメチルを表し、R2 はアルキルを表す)で示される(メタ)アクリル酸2-アルキル-2-アダマンチルの重合単位を有する樹脂及び、下式(V)(式中、Q1 、Q2 及びQ3 は互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数1〜6のアルコキシを表し、nは4〜8の整数を表す)で示される酸発生剤を含有してなる化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

下式(I)(式中 、R1 は水素又はメチルを表し、R2 はアルキルを表す)で示される(メタ)アクリル酸2-アルキル-2-アダマンチルの重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂及び、下式(V)(式中、Q1 、Q2 及びQ3 は互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数1〜6のアルコキシを表し、nは4〜8の整数を表す)で示されるスルホニウム塩系酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R