化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999315265
Publication number (International publication number)：2000275845
Application date： Nov. 05, 1999
Publication date： Oct. 06, 2000
Summary：

【要約】【課題】感度や解像度、基板への接着性などの各種レジスト性能が良好であるとともに、塩基性基板や低反射基板に適用した場合でも基板依存性が小さく、いずれの基板に対しても良好なプロファイルを与える化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】下式(I)(式中、R1 は水素又はメチルを表し、R2 はアルキルを表す)で示される(メタ)アクリル酸2-アルキル-2-アダマンチルの重合単位を有する樹脂及び、下式(V)(式中、Q1 、Q2 及びQ3 は互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数1〜6のアルコキシを表し、nは4〜8の整数を表す)で示される酸発生剤を含有してなる化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

下式(I)(式中、R1 は水素又はメチルを表し、R2 はアルキルを表す)で示される(メタ)アクリル酸2-アルキル-2-アダマンチルの重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂及び、下式(V)(式中、Q1 、Q2 及びQ3 は互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数1〜6のアルコキシを表し、nは4〜8の整数を表す)で示されるスルホニウム塩系酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 601 , C08F 20/18 , C08F 20/28 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/039 601 , C08F 20/18 , C08F 20/28 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-327055 Applicant：富士写真フイルム株式会社
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-112698 Applicant：富士通株式会社
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-320105 Applicant：富士通株式会社

Show all

Return to Previous Page