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J-GLOBAL ID：200903014134259759

投影露光装置

Inventor： 金田 哲弥 ,  井上 博文
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 半田 昌男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992129622
Publication number (International publication number)：1993299320
Application date： Apr. 22, 1992
Publication date： Nov. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】 一つのウエハに対して2回の露光を行う必要がある場合に、二回の露光作業を能率良く行うことができる投影露光装置を提供する。【構成】 照明系2a及び2bをそれぞれマスクステージ4a及び4bの上部に、ミラー32a及び32bをそれぞれマスクステージ4a及び4bの下部に配置する。ミラー32a,32bはマスクを通過した光を可動ミラー34に反射する。反射光学系6は、可動ミラー34を回転することにより、マスクステージ4a又はマスクステージ4bを通過する光のうちいずれか一方を選択自在に縮小レンズ群8に反射する。

Claim (excerpt)：

マスクに描いた原画パターンを投影光学系を介してウエハ上のフォトレジストに転写する投影露光装置において、前記マスクを載置するための二つのマスクステージと、該二つのマスクステージと前記投影光学系との間に配置した、前記二つのマスクステージを通過する光のうちいずれか一方を選択自在に前記投影光学系に反射する反射光学系とを設けたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 311 S