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J-GLOBAL ID：200903014172428190

エポキシ基含有シリコーンレジンおよびその製造方法

Inventor： 中西 淳二 ,  猿山 俊夫
Applicant, Patent owner： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993112172
Publication number (International publication number)：1994298940
Application date： Apr. 15, 1993
Publication date： Oct. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 -90°C〜150°Cの範囲に明確なガラス転移点を有し、かつ三官能シロキサン単位を必須とするエポキシ基含有シリコーンレジンおよび任意の分子量、軟化点および-90°C〜150°Cの範囲に明確なガラス転移点を有し、かつ三官能性シロキサン単位を必須とするエポキシ基含有シリコーンレジンを再現性良く製造することのできるエポキシ基含有シリコーンレジンの製造方法を提供する。【構成】 一般式:(R1SiO3/2)a(R2R3SiO2/2)b(SiO4/2)c{式中、R1、R2およびR3は同種もしくは異種の一価炭化水素基またはエポキシ基含有有機基であり、但し、分子中のケイ素原子結合全有機基に対するエポキシ基含有有機基の含有量は0.1〜40モル%であり、aは正数であり、bは0または正数であり、cは0または正数であり、かつb/aは0〜10の数であり、c/(a+b+c)は0〜0.3の数である。}で示され、かつ-90°C〜150°Cのガラス転移点を有するエポキシ基含有シリコーンレジンおよびその製造方法。

Claim (excerpt)：

一般式:(R1SiO3/2)a(R2R3SiO2/2)b(SiO4/2)c{式中、R1、R2およびR3は同種もしくは異種の一価炭化水素基またはエポキシ基含有有機基であり、但し、分子中のケイ素原子結合全有機基に対するエポキシ基含有有機基の含有量は0.1〜40モル%であり、aは正数であり、bは0または正数であり、cは0または正数であり、かつb/aは0〜10の数であり、c/(a+b+c)は0〜0.3の数である。}で示され、かつ-90°C〜150°Cのガラス転移点を有するエポキシ基含有シリコーンレジン。

IPC (2)：

C08G 77/38 NUF ,  C08G 77/10 NUC