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J-GLOBAL ID：200903014174589042

フォトレジストフィルム

Inventor： 日向 淳悦 ,  佐藤 弘章
Applicant, Patent owner： 日本合成化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997330903
Publication number (International publication number)：1999149157
Application date： Nov. 14, 1997
Publication date： Jun. 02, 1999
Summary：

【要約】【課題】 感度、解像度、密着性、耐エッチング性、レジストパターン形成性に非常に優れたフォトレジストフィルムを提供すること。【解決手段】 支持体フィルム/感光性樹脂組成物層/保護フィルムからなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルムの厚みが10〜30μmで、表面粗度が0.001〜0.015μmであり、かつ、感光性樹脂組成物層が(a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(c)光重合開始剤からなり、(c)光重合開始剤として、(a)と(b)の総重量100重量部に対して(c-1)N-アリール-α-アミノ酸系化合物を0.01〜1.0重量部、(c-2)N,N′-テトラアルキル-4,4′-ジアミノベンゾフェノン系化合物を0.01〜0.5重量部、(c-3)ロフィン二量体を0.5〜6.0重量部、(c-4)特定式で示される化合物を0.1〜10重量部含有してなることを特徴とするフォトレジストフィルム。

Claim (excerpt)：

支持体フィルム(I)/感光性樹脂組成物層(II)/保護フィルム(III)からなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルム(I)の厚みが10〜30μmで、表面粗度(Ra)が0.001〜0.015μmであり、かつ、感光性樹脂組成物層(II)が(a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(c)光重合開始剤からなり、(c)光重合開始剤として、(a)と(b)の総重量100重量部に対して(c-1)N-アリール-α-アミノ酸系化合物を0.01〜1.0重量部、(c-2)N,N′-テトラアルキル-4,4′-ジアミノベンゾフェノン系化合物を0.01〜0.5重量部、(c-3)ロフィン二量体を0.5〜6.0重量部、(c-4)下記?@式で示される化合物を0.1〜10重量部含有してなることを特徴とするフォトレジストフィルム。【化1】(ここで、R1、R2は水素又はアルキル基で、それらは同一であってもよいし、互いに異なっていてもよい。)

IPC (5)：

G03F 7/004 512 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/09 501

FI (5)：

G03F 7/004 512 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/09 501