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J-GLOBAL ID：200903014196404399

オフセット印刷方法

Inventor： 中山 隆雄 ,  森 信文 ,  中村 隆
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999177346
Publication number (International publication number)：2001001662
Application date： Jun. 23, 1999
Publication date： Jan. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】 現像液を用いない簡易製版適性と、印刷面の画像部と非画像部の識別性に裏打ちされた印刷画質と、十分な耐刷性をともに満たしたオフセット印刷方法を提供すること。【解決手段】 光照射することで表面が親水性となる特性を有する金属酸化物及び/又は高温親水性発現特性を有する金属酸化物を画像形成層とした印刷用原板の表面を疎水性として、該表面を像様に光照射するか又は高温親水性発現温度で像様に加熱して、親水性と疎水性の像様分布を形成させ、該像様分布を有する印刷用原板上に水溶性金属化合物と還元性化合物とを含有し、還元性化合物の酸化電位が水溶性金属化合物の還元電位よりも卑(低電位)であるように調製した無電解メッキ用水溶液を接触させて、無電解メッキによって、該印刷用原板上の親水性領域であって、かつ金属析出核を表面に有する該親水性領域に金属薄層を像様に形成させ印刷版を作成する印刷方法。

Claim (excerpt)：

光照射することで表面が親水性となる特性を有する金属酸化物及び/又は高温親水性発現特性を有する金属酸化物を表面に有する印刷用原板を有機化合物と接触させるか、又は疎水性発現温度に加熱することによって、該原板表面を疎水性とし、次いで該表面を像様に光照射するか又は高温親水性発現温度で像様に加熱することにより該照射部又は加熱部を親水性に変えて、疎水性領域と親水性領域の像様分布を形成し、 該像様分布を有する印刷用原板上に水溶性金属化合物と還元性化合物とを含有し、還元性化合物の酸化電位が水溶性金属化合物の還元電位よりも卑(低電位)であるように調製した無電解メッキ用水溶液を接触させて、無電解メッキによって、該印刷用原板上の親水性領域であって、かつ金属析出核を表面に有する該親水性領域に金属薄層を像様に形成させ、さらに、該疎水性領域に親水性化処理を施し、該印刷用原板をインキと接触させることによって該金属薄層を有する領域にインキを受け入れた印刷面を形成させ、印刷を行うことを特徴とするオフセット印刷方法。

IPC (5)：

B41N 1/14 ,  B41C 1/10 ,  B41M 1/06 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 521

FI (5)：

B41N 1/14 ,  B41C 1/10 ,  B41M 1/06 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 521

F-Term (46)：

2H025AA02 ,  2H025AA12 ,  2H025AB03 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BH03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA14 ,  2H084AA14 ,  2H084AA30 ,  2H084CC05 ,  2H096AA06 ,  2H096BA09 ,  2H096BA16 ,  2H096EA02 ,  2H096FA05 ,  2H113AA01 ,  2H113AA02 ,  2H113BA05 ,  2H113BB22 ,  2H113DA04 ,  2H113DA07 ,  2H113DA14 ,  2H113DA25 ,  2H113EA02 ,  2H113EA04 ,  2H113FA08 ,  2H113FA29 ,  2H113FA42 ,  2H114AA04 ,  2H114AA22 ,  2H114AA27 ,  2H114AA30 ,  2H114BA01 ,  2H114BA05 ,  2H114DA05 ,  2H114DA07 ,  2H114DA25 ,  2H114DA78 ,  2H114FA16 ,  2H114GA07 ,  2H114GA31 ,  2H114GA34 ,  2H114GA35 ,  2H114GA36 ,  2H114GA38