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J-GLOBAL ID：200903014210297169

回転露光方法及び装置

Inventor： 松本 隆宏 ,  村上 栄一
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 日比谷 征彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998283442
Publication number (International publication number)：2000098632
Application date： Sep. 18, 1998
Publication date： Apr. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 正確に位置合わせを行って基板上にパターンを同時に露光し、回折効率の高い回折光学素子を高スループットで作製する。【解決手段】 照明光学系8によりレチクル9を照明し、レチクル9上のパターンを投影レンズ10によって感光剤を塗布した基板Sに転写する際にアライメントマークを同時に転写し、レチクルアライメントスコープ11によりレチクル9上のアライメントマークと、投影レンズ10を介して基板S上のアライメントマークか又は基準マーク5を同時に観察して位置合わせを行い、またアライメントスコープ12により、回転ステージ3上の基準マーク5と基板S上のマークを観察して、基板Sのアライメントを行う。

Claim (excerpt)：

基板を回転しながらレチクルのパターンを転写する回転露光方法であって、1層目の回転露光時にレチクル上のアライメントマークを基板の周辺部の複数個所に転写する第1工程と、2層目の回転露光時に回転ステージの中心軸と前記1層目に転写したアライメントマークから求めた回転対称パターンの中心軸との位置ずれ量を検出する第2工程と、前記位置ずれ量に基づいて前記基板を位置合わせする第3工程と、前記2層目のレチクル上のアライメントマークに対して前記1層目のアライメントマークを用いて前記基板を位置決めする第4工程と、前記2層目のレチクル上のパターンを前記基板に回転露光して転写する第5工程とから成ることを特徴とする回転露光方法。

IPC (3)：

G03F 9/00 ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/20 501

FI (3)：

G03F 9/00 Z ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/20 501

F-Term (12)：

2H049AA04 ,  2H049AA33 ,  2H049AA45 ,  2H049AA48 ,  2H049AA56 ,  2H097AA12 ,  2H097KA03 ,  2H097KA12 ,  2H097KA13 ,  2H097KA20 ,  2H097KA28 ,  2H097LA10