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J-GLOBAL ID:200903014217565398

電解めっき用めっき浴及び複合めっき用めっき浴並びにこれらの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 坂本 光雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002234101
Publication number (International publication number):2004076031
Application date: Aug. 09, 2002
Publication date: Mar. 11, 2004
Summary:
【課題】還元電位の低い金属であってもめっき皮膜を形成でき且つナノオーダーの不活性微粒子であっても均一に分散させて複合めっきを行えるようにする。【解決手段】ジメチルスルホン(ステップS1)に金属無水塩を混合し(ステップS2)た後、該混合液を昇温して金属無水塩を溶融させて電解浴を形成させ(ステップS3)、該電解浴にナノオーダーの不活性微粒子を添加して混合、撹拌(ステップS4)して複合めっき用めっき浴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
ジメチルスルホンにめっき皮膜を形成させるべき金属の無水の塩を混合した後、該混合物を加熱して上記金属無水塩を溶融させてなることを特徴とする電解めっき用めっき浴。
IPC (2):
C25D3/66 ,  C25D15/02
FI (4):
C25D3/66 ,  C25D15/02 A ,  C25D15/02 F ,  C25D15/02 G

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