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J-GLOBAL ID：200903014226116512

磁気ディスク基板の研磨用組成物

Inventor： 石飛 健 ,  貴堂 高徳 ,  坂本 博
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (1)： 矢口 平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997051838
Publication number (International publication number)：1998121034
Application date： Mar. 06, 1997
Publication date： May. 12, 1998
Summary：

【要約】【課題】 磁気ディスクの表面粗さが小さく、かつ突起や研磨傷を生じることなく、しかも高い研磨速度が維持できる磁気ディスク基板の研磨用組成物を提供すること。【解決手段】 水、酸化ジルコニウム微粒子、及び硝酸アルミニウム等の研磨促進剤からなるスラリー状の組成物を磁気ディスク基板の研磨に用いる。

Claim (excerpt)：

水、酸化ジルコニウム微粒子及び研磨促進剤からなる磁気ディスク基板の研磨用組成物。

IPC (4)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  G11B 5/84

FI (4)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H ,  G11B 5/84 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (15)

• 特開平3-146584
  
• 特開平1-205973
  
• 特開平3-076782
  
• 特開平4-275387
  
• 特開平3-115383
  
• ナノサイズのαアルミナ粒子とその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-040754   Applicant：ノートンカンパニー
• アルミナ質研磨微粉の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-297999   Applicant：昭和電工株式会社
• 特開平3-054287
  
• 低活性ジルコニアの水性ゾル及びその製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-046025   Applicant：日産化学工業株式会社
• 特開平3-146584
  
• 特開平1-205973
  
• 特開平3-076782
  
• 特開平4-275387
  
• 特開平3-115383
  
• 特開平3-054287