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J-GLOBAL ID：200903014231348138

位相シフトマスクおよび露光方法

Inventor： 岡本 好彦
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 筒井 大和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993302062
Publication number (International publication number)：1995159970
Application date： Dec. 01, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：

【要約】【目的】 高寸法精度の転写パターンが得られる位相シフトマスクおよび露光技術を提供する。【構成】 第1の主開口マスクパターンと、その周辺の遮光膜2をもって隔離されており前記マスクパターンの両側に設けられている第1の副開口マスクパターンと、前記第1の主開口マスクパターン表面に設けられている位相シフタとしての透明膜8とを有する第1のマスクパターンと、第2の主開口マスクパターンと、その周辺の遮光膜2をもって隔離されており前記マスクパターンの両側に設けられている第2の副開口マスクパターンと、前記第2の副開口マスクパターン表面に設けられている位相シフタとしての透明膜8とを有する第2のマスクパターンとを備えており、前記第1の副開口マスクパターンの一方の外側における遮光膜2が、片側の前記第2の副開口マスクパターンの外側における遮光膜2と同体である。

Claim (excerpt)：

光透過材料からなるマスク基板と、前記マスク基板表面の選択的領域に設けられているマスクパターンとなる遮光膜とを有する位相シフトマスクであって、第1の主開口マスクパターンと、前記第1の主開口マスクパターン周辺の遮光膜をもって隔離されており前記第1の主開口マスクパターンの両側に設けられている第1の副開口マスクパターンと、前記第1の主開口マスクパターン表面に設けられている位相シフタとしての透明膜とを有する第1のマスクパターンと、第2の主開口マスクパターンと、前記第2の主開口マスクパターン周辺の遮光膜をもって隔離されており前記第2の主開口マスクパターンの両側に設けられている第2の副開口マスクパターンと、前記第2の副開口マスクパターン表面に設けられている位相シフタとしての透明膜とを有する第2のマスクパターンとを備えており、前記第1のマスクパターンにおける片側の前記第1の副開口マスクパターンの外側における遮光膜が、前記第2のマスクパターンにおける片側の前記第2の副開口マスクパターンの外側における遮光膜と同体であることを特徴とする位相シフトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-252659
  
• 特開平3-071133
  
• 特開平3-252659
  
• 特開平3-071133