Pat
J-GLOBAL ID:200903014249424451
ガス除去材
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000267413
Publication number (International publication number):2002079099
Application date: Sep. 04, 2000
Publication date: Mar. 19, 2002
Summary:
【要約】【課題】 低温かつ水蒸気存在下において悪臭ガスや有害ガスの除去能に優れ、なおかつこれを比較的低温で加熱することによって除去能を回復することが出来るガス除去材を提供する。【解決手段】無機系化合物からなるガス除去材であって、無機系化合物が周期律表2a族および3a族から選ばれてる少なくとも1種の金属を含み、25°C、60RH%におけるガス除去容量が1×10-2mmol/g以上であるガス除去材である。またガス除去後の再生が可能で、その除去容量回復率が50%以上である無機系化合物からなるガス除去材である。
Claim (excerpt):
無機系化合物からなるガス除去材であって、25°C、60RH%におけるガス除去容量が1×10-2mmol/g以上、ガス除去材のガス除去後の再生が可能で、その除去容量回復率が50%以上であることを特徴とするガス除去材。
IPC (8):
B01J 23/76 ZAB
, A61L 9/01
, B01D 53/38
, B01D 53/81
, B01D 53/86
, B01J 23/34
, B01J 23/78
, B01J 35/10 301
FI (7):
B01J 23/76 ZAB A
, A61L 9/01 B
, B01J 23/34 A
, B01J 23/78 A
, B01J 35/10 301 F
, B01D 53/34 116 B
, B01D 53/36 G
F-Term (69):
4C080AA07
, 4C080BB02
, 4C080CC02
, 4C080HH05
, 4C080JJ04
, 4C080KK08
, 4C080LL02
, 4C080MM02
, 4C080QQ03
, 4D002AA32
, 4D002AB02
, 4D002AC10
, 4D002BA04
, 4D002BA05
, 4D002BA06
, 4D002DA04
, 4D002DA11
, 4D002DA21
, 4D002DA23
, 4D002DA24
, 4D002DA70
, 4D048AA19
, 4D048AA22
, 4D048AB03
, 4D048BA14X
, 4D048BA15X
, 4D048BA18X
, 4D048BA19X
, 4D048BA28X
, 4D048BA35X
, 4D048BA37X
, 4D048BA38X
, 4D048BA42X
, 4D048BB01
, 4D048BB17
, 4D048CC40
, 4D048EA04
, 4G069AA02
, 4G069BB06A
, 4G069BB06B
, 4G069BC03A
, 4G069BC03B
, 4G069BC08A
, 4G069BC12A
, 4G069BC12B
, 4G069BC31A
, 4G069BC31B
, 4G069BC38A
, 4G069BC42A
, 4G069BC42B
, 4G069BC43A
, 4G069BC43B
, 4G069BC62A
, 4G069BC62B
, 4G069BC67A
, 4G069BC67B
, 4G069BC68A
, 4G069BC68B
, 4G069CA01
, 4G069CA10
, 4G069CA11
, 4G069CA17
, 4G069EA01Y
, 4G069EC02X
, 4G069EC03X
, 4G069EC03Y
, 4G069EC04X
, 4G069EC05X
, 4G069ED01
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