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J-GLOBAL ID:200903014280415932

リソグラフィ装置の特徴形成変数の決定方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 古谷 馨 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994093522
Publication number (International publication number):1995074091
Application date: May. 02, 1994
Publication date: Mar. 17, 1995
Summary:
【要約】【目的】 リソク ゙ラフィ印刷ハ ゚ターンの定量的評価を提供すること【構成】 リソク ゙ラフィ装置等のための焦点や露光等の特徴形成変数を決定する方法であり、性能指数を導出するフーリエ処理を含む。一実施例ではリソク ゙ラフィ装置は一連の単一 ゚ターン形成を製作する。各露光の光学的画像が形成され、その各光学的画像についてフーリエ振動数スヘ ゚クトルが決定される。その振動数スヘ ゚クトルの原点から様々な角度で生じる線に沿って光学振動数を定量化することにより各振動数スヘ ゚クトルから角振動数関数が導出される。最大振動数の軸に関して軸上および軸外振動数による影響が各角振動数関数毎に定量化される。リソク ゙ラフィ装置用の最適値は、角振動数関数から導出されたテ ゙ータに基づき決定される。好適には、角振動数関数のその関連するフーリエ振動数スヘ ゚クトルからの導出は、原点から生じる選択された線の部分に沿っての光学振動数の平均化であり、これによりSN比が改善される。
Claim (excerpt):
基板上にパターンを製作するための特徴形成変数を設定する方法であって、この方法が、基板上にパターンを形成し、前記パターンの画像を形成し、前記画像を光強度の空間周波数に従って変換し、これにより前記画像の変換された光学振動数スペクトルを形成し、その変換された光学振動数スペクトルに沿って最大振動数軸を決定し、前記最大振動数軸のうちの少なくとも1つに沿った光学振動数を前記最大振動数軸間の光学振動数と比較し、その光学振動数の比較に応じて特徴形成変数の設定を選択する、というステップを含むことを特徴とする、前記の特徴形成変数の設定方法。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  G03F 7/207 ,  G02B 27/46

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