Pat

J-GLOBAL ID：200903014302439849

試料作製方法および装置

Inventor： 梅村 馨 ,  須賀 三雄
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997270800
Publication number (International publication number)：1999108813
Application date： Oct. 03, 1997
Publication date： Apr. 23, 1999
Summary：

【要約】【課題】ウエハから所望の特定領域を含む試料片のみを摘出して、分析装置の試料ステ-ジに、経験や熟練や時間のかかる手作業の試料作り工程を経ることなく、搭載する試料作製方法およびその装置を提供すること。【解決手段】微小試料12に加工するFIB照射手段2と、薄膜部の厚みを測定するためのレーザ照射手段9と、摘出した試料片を移動させる移送手段8とを用いる。【効果】ウエハ内の所望箇所をウエハを細分化することなく所望領域を含む試料を作製でき、特に、反射電子や試料を透過して広角度に散乱した電子が近くにある厚膜部の側壁に当たって発生する不要なX線を減少差せることができ、FIB加工でウォール化した領域のほとんど全ての部分で高精度のEDX分析を可能にする。

Claim (excerpt)：

ウエハなどの試料基板の表面に対して略平行な面を分析するための試料作製方法であって、試料基板表面に対して0°以上20°以下の角度で上記試料基板に集束イオンビームを照射する工程と、所望の分析または観察する領域を含み上記試料基板表面を一辺とする三角形断面のクサビ形状の試料片を摘出する工程と、上記摘出した試料片を試料ホルダに固定する工程とを含むことを特徴とする試料作製方法。

IPC (3)：

G01N 1/28 ,  G01N 23/04 ,  H01J 37/31

FI (5)：

G01N 1/28 G ,  G01N 23/04 ,  H01J 37/31 ,  G01N 1/28 W ,  G01N 1/28 F