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J-GLOBAL ID：200903014308597195
投影露光装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
永井 冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991194930
Publication number (International publication number)：1993021319
Application date： Jul. 09, 1991
Publication date： Jan. 29, 1993
Summary：
【要約】【目的】 テストレチクルなどを使用することなく投影光学系の結像特性を計測してリアルタイムに補正するとともに、従来補正されていなかった非点收差,偏心あるいは球面收差による結像特性への影響を抑制できるようにした投影露光装置を提供する。【構成】 投影光学系PLによる露光領域の少なくとも2ヵ所(図3の符号21a〜21e)において合焦状態検出手段32Aで合焦状態を検出し、この少なくとも2ヵ所の合焦状態の検出結果から投影光学系PLの結像特性を結像特性計測手段32Bで計測する。サディタル方向に延在する第1のパターン、およびメディオナル方向に延在する第2のパターンを設け、これらのパターンの通過光でそれぞれ合焦状態を計測することにより、非点收差、偏心あるいは球面收差を求めて補正する。
Claim (excerpt)：
マスクパターンの透過光束を投影光学系を介してステージ上の感光基板に結像する投影露光装置において、前記感光基板の感光面とほぼ同一の面内に設置された基準パターンと、この基準パターンの下面に照明光を導き、基準パターンの透過光を前記投影光学系を介して前記マスクパターンに入射させる照明手段と、前記基準パターンの透過光束による前記マスクパターン裏面からの反射光束を前記投影光学系および基準パターンを介して受光する受光手段と、前記ステージを前記投影光学系の光軸方向に移動させたときに前記受光手段から得られる出力信号に基づいて合焦状態を検出する合焦状態検出手段と、前記投影光学系による露光領域の少なくとも2ヵ所において前記合焦状態検出手段で合焦状態を検出し、この少なくとも2ヵ所の合焦状態の検出結果から前記投影光学系の結像特性を計測する結像特性計測手段とを具備することを特徴とする投影露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 7/207
