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J-GLOBAL ID:200903014312368028

光導波路の形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三好 秀和 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992051643
Publication number (International publication number):1993249335
Application date: Mar. 10, 1992
Publication date: Sep. 28, 1993
Summary:
【要約】【目的】 XカットLN結晶基板上にTiの光導波路を拡散形成するに当たって、偏光に依存しない良質な長波長帯(1.3μm)の光導波路を形成する。【構成】 この発明の光導波路の形成方法は、LN結晶基板上にZ軸に沿ってTi拡散光導波路を形成するに当たって、Ti拡散温度を1020°Cよりも高い温度とし、拡散時間を6時間よりも長い時間とすることを特徴とする。また、上記の光導波路の形成方法において、Ti膜厚dと光導波路パターン幅wとを、350A≦d≦450A、かつ、5μm≦w≦8μmの条件にする。
Claim (excerpt):
LiNbO3 (LN)結晶基板上にZ軸に沿ってTi拡散光導波路を形成するに当たって、Ti拡散温度を1020°Cよりも高い温度とし、拡散時間を6時間よりも長い時間とすることを特徴とする光導波路の形成方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開昭63-235914
  • 特開昭61-160704
  • 特開平1-179001
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