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J-GLOBAL ID：200903014327408239

薄膜エレクトロルミネッセンス素子の発光層作製用スパッタターゲットの製造方法

Inventor： 松山 博圭 ,  松井 正宏
Applicant, Patent owner： 旭化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992194186
Publication number (International publication number)：1994033106
Application date： Jul. 21, 1992
Publication date： Feb. 08, 1994
Summary：

【要約】【構成】 SrS母材に発光中心をド-プした発光層作成用スパッタターゲットの製造方法において、SrS粉末に発光中心添加物および硫黄粉末を混合後、硫化性ガス雰囲気下300°C〜1500°Cで熱処理し、その粉末を不活性ガス雰囲気下でホットプレスするか、もしくは不活性ガス雰囲気下でプレス機によって成型し、同雰囲気で加熱処理することを特徴とするスパッタタ-ゲットの製造方法。【効果】 従来技術と比較してSrS粉末粒子間の焼結がより促進された高い緻密度の焼結体タ-ゲットを得ることができる。また、そのタ-ゲットを用いて発光層を成膜後、該発光層を硫化性ガス雰囲気下で熱処理することにより結晶粒径の大きな高結晶化した発光層を得ることができ、その結果、従来技術を用いて作製した素子に比べて高輝度に発光する薄膜EL素子を作製できる。

Claim (excerpt)：

SrS母材に発光中心をドープした発光層作製用スパッタターゲットの製造方法において、SrS粉末に発光中心添加物および硫黄粉末を混合後、硫化性ガス雰囲気下300°C〜1500°Cで熱処理し、その粉末を不活性ガス雰囲気下でホットプレスするか、もしくは不活性ガス雰囲気下でプレス機によって成型後、同雰囲気下で加熱処理することを特徴とするスパッタターゲットの製造方法。

IPC (3)：

B22F 3/02 ,  B22F 3/12 ,  C23C 14/34