Pat

J-GLOBAL ID：200903014399918770

レジスト組成物

Inventor： 小太刀 明子
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 石田 敬 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998222007
Publication number (International publication number)：2000056459
Application date： Aug. 05, 1998
Publication date： Feb. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】 半導体集積回路等の製造において微細加工用に用いられるArFエキシマレーザ光等の短波長光での露光を可能にするネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 本発明のレジスト組成物は、ラクトン化により分子内エステルを作る基をエステル部に持つα置換アクリル酸エステルの重合体と、酸発生剤とを含む。この重合体は、下記の繰返し単位を持つことができる。【化1】(この式のR1 、R2 は炭素数1〜6の炭化水素基であり、mは2〜4の整数である)

Claim (excerpt)：

ラクトン化により分子内エステルを作る基をエステル部に持つα置換アクリル酸エステルの重合体と、光酸発生剤とを含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (10)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45