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J-GLOBAL ID：200903014411076438

放電プラズマ処理装置

Inventor： 真弓 聡
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001371715
Publication number (International publication number)：2003171768
Application date： Dec. 05, 2001
Publication date： Jun. 20, 2003
Summary：

【要約】【課題】 被処理体にダメージを与えず、局所処理ができ、かつ処理ガスのシールが容易にできる放電プラズマ処理装置の提供。【解決手段】 プラズマ吹き出しノズルと被処理体の間に、ガス排気流路と、プラズマ吹き出し流路の近傍を実質的にシールする空間を設けた放電プラズマ処理装置であって、プラズマ吹き出しノズルと被処理体の間に被処理体と非接触なガイド部材を設け、前記ガイド部材にはガス排気流路が設けられ、前記ガス排気流路は前記ガイド部材と被処理体が形成する間隔より十分大きいことを特徴とする放電プラズマ処理装置。

Claim (excerpt)：

プラズマ吹き出しノズルと被処理体の間に、ガス排気流路、並びに、プラズマ吹き出し流路の近傍を実質的にシールする空間を設けることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (5)：

C23C 16/50 ,  B01J 19/08 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/34

FI (5)：

C23C 16/50 ,  B01J 19/08 H ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/34 ,  H01L 21/302 B

F-Term (29)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BA05 ,  4G075BB10 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075CA16 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB44 ,  4G075EC01 ,  4G075EC21 ,  4G075FC15 ,  4K030EA06 ,  4K030EA11 ,  4K030FA03 ,  4K030JA03 ,  4K030KA10 ,  4K030KA14 ,  4K030KA30 ,  4K030KA47 ,  5F004BA03 ,  5F004BA20 ,  5F045AA08 ,  5F045AB31 ,  5F045AB32 ,  5F045EB13 ,  5F045EH12