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J-GLOBAL ID：200903014413705700

洗浄機能付き荷電ビーム装置

Inventor： 大歳 研司 ,  杉原 和佳 ,  小笠原 宗博 ,  高松 潤 ,  小池 徹
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996059756
Publication number (International publication number)：1997251946
Application date： Mar. 15, 1996
Publication date： Sep. 22, 1997
Summary：

【要約】【課題】O2 とCF4 ガスとの混合ガスによる洗浄プロセスによって新たに形成された酸化膜を確実に除去する。【解決手段】電子ビーム発生部2とこの荷電ビームを偏向制御させる光学系3,4とを含む荷電ビーム露光装置において、ガスをプラズマ化あるいは活性化させるために前記鏡筒外に設けられた放電手段12と、この放電手段12によって生成され、被洗浄部に付着する第1の内部汚染物質を除去する第1の洗浄用ガス、及びこの第1の洗浄用ガスが供されたことにより前記被洗浄部に新たに形成された第2の内部汚染物を除去する第2の洗浄用ガスを前記鏡筒1内に導入するために、前記放電手段12と接続され、前記鏡筒1に設けられたガス導入口13と、前記第2の洗浄用ガスを供する際に、被洗浄部の温度を25°C以上に保持する温度保持手段と、前記鏡筒1内のガスを排気する排気手段15とを具備する。

Claim (excerpt)：

鏡筒と、この鏡筒内に設置され荷電ビームを生成する荷電ビーム発生部と、前記鏡筒の内部に収納され前記荷電ビームを偏向させる光学系と、前記鏡筒に接続され、前記光学系によって偏向された前記荷電ビームが照射される試料を収容する試料室と、前記鏡筒内の被洗浄部に付着した第1の内部汚染物を除去するために、第1の洗浄用ガスをプラズマ化あるいは活性化して前記鏡筒内に導入する手段と、前記第1の洗浄用ガスの導入により形成された第2の内部汚染物を除去するために、第2の洗浄用ガスをプラズマ化あるいは活性化して前記鏡筒内に導入する手段と、前記被洗浄部の温度を25°C以上に保持する温度調整手段と、前記鏡筒内のガスを排気する排気手段とを具備することを特徴とする洗浄機能付き荷電ビーム装置。

IPC (5)：

H01L 21/027 ,  C23F 4/00 ,  C23G 5/00 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/304 341

FI (6)：

H01L 21/30 541 L ,  C23F 4/00 E ,  C23F 4/00 A ,  C23G 5/00 ,  H01L 21/304 341 D ,  H01L 21/302 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開昭63-308856
  
• 荷電ビーム照射装置及び方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-124406   Applicant：株式会社東芝
• 特開平4-094524