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J-GLOBAL ID：200903014479080867

tert-ブトキシカルボニル基で部分エステル化されたポリ(3-ヒドロキシスチレン)及びその製造方法

Inventor： 渡辺 修 ,  山田 素行
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992225172
Publication number (International publication number)：1994049136
Application date： Jul. 31, 1992
Publication date： Feb. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 酸で容易に現像することができると共に、単分散性で高現像性及び高解像度を有し、機能性高分子としてレジスト材料等の用途に好適なポリマーを提供する。【構成】 重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)が1.01〜1.5の単分散性のポリ(3-ヒドロキシスチレン)中の水酸基を部分的にtert-ブトキシカルボニル化して、下記構造式(1)及び(2)で示される繰り返し単位を有し、かつ分子量分布が重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)=1.01〜1.5である分子中の水酸基がtert-ブトキシカルボニル基で部分エステル化されたポリ(3-ヒドロキシスチレン)を得る。【化1】

Claim (excerpt)：

下記構造式(1)及び(2)で示される繰り返し単位を有し、かつ分子量分布が重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)=1.01〜1.5であることを特徴とする分子中の水酸基がtert-ブトキシカルボニル基で部分エステル化されたポリ(3-ヒドロキシスチレン)。【化1】

IPC (2)：

C08F212/14 MJY ,  C08F 8/14 MGN