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J-GLOBAL ID:200903014482455790
レジスト用(共)重合体およびレジスト組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000392856
Publication number (International publication number):2002006502
Application date: Dec. 25, 2000
Publication date: Jan. 09, 2002
Summary:
【要約】【課題】 DUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等に用いた場合に、高い感度および/または解像度が得られるレジスト用(共)重合体を提供する。【解決手段】 脂環式骨格を有する単量体単位およびラクトン骨格を有する単量体単位から選ばれる少なくとも一種の単量体単位を含むレジスト用(共)重合体であって、分子末端に式(1)で表わされる分子末端基が含まれていないことを特徴とするレジスト用(共)重合体。【化1】(R1およびR2はH、炭素数1〜10のアルキル基、-COO-RA、-X-COO-RA、-CONRB-RA、-X-CONRB-RA、-NRB-RA、または-X-NRB-RAであり、R3はシアノ基または炭素数2〜10のシアノアルキル基である。なお、Xは炭素数1〜10のアルキレン基であり、RAおよびRBはHまたは炭素数1〜10のアルキル基である。)
Claim (excerpt):
脂環式骨格を有する単量体単位およびラクトン骨格を有する単量体単位から選ばれる少なくとも一種の単量体単位を含むレジスト用(共)重合体であって、分子末端に式(1)で表わされる分子末端基が含まれていないことを特徴とするレジスト用(共)重合体。【化1】(R1およびR2はH、炭素数1〜10のアルキル基、-COO-RA、-X-COO-RA、-CONRB-RA、-X-CONRB-RA、-NRB-RA、または-X-NRB-RAであり、R3はシアノ基または炭素数2〜10のシアノアルキル基である。なお、Xは炭素数1〜10のアルキレン基であり、RAおよびRBはHまたは炭素数1〜10のアルキル基である。)
IPC (6):
G03F 7/039 601
, C08F 2/38
, C08F 20/26
, C08L 33/04
, G03F 7/033
, H01L 21/027
FI (6):
G03F 7/039 601
, C08F 2/38
, C08F 20/26
, C08L 33/04
, G03F 7/033
, H01L 21/30 502 R
F-Term (36):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BJ10
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025FA17
, 4J002BG041
, 4J002BG051
, 4J002EB106
, 4J002EQ036
, 4J002EV246
, 4J002EV286
, 4J002EV296
, 4J002FD146
, 4J011HB22
, 4J011NA25
, 4J100AL08P
, 4J100BC04P
, 4J100BC07P
, 4J100BC09P
, 4J100BC12P
, 4J100BC37P
, 4J100BC53P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100DA61
, 4J100FA03
, 4J100FA04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-297144
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポリマー及びフォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-048803
Applicant:シップレーカンパニーエルエルシー
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ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-115497
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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