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J-GLOBAL ID：200903014527615956

マスクの黒欠陥修正方法

Inventor： 高岡 修 ,  矢部 悟
Applicant, Patent owner： セイコーインスツルメンツ株式会社
Agent (1)： 坂上 正明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001005072
Publication number (International publication number)：2002214760
Application date： Jan. 12, 2001
Publication date： Jul. 31, 2002
Summary：

【要約】【課題】イオンビームを用いた欠陥修正装置と原子間力顕微鏡(AFM)を組み合わせることで、実用的なスル-プットでリバーベッドも無い黒欠陥修正を可能にする。【解決手段】リバーベッドのない黒欠陥修正を実現するために、第一段階でイオンビームのテール成分や小角度散乱されたイオンビームが周辺のガラス部に当たらないように認識した欠陥領域の内側のみに照射し、欠陥の縁部18を残すようなエッチングを行い、第二段階で残した欠陥の縁部18のみをガラス面19の高さに固定したAFMの硬い探針15で物理的に削るという二段階の修正手順を踏んで黒欠陥の修正を行う。

Claim (excerpt)：

イオンビームを用いたマスク欠陥修正装置でイオンビームが黒欠陥領域の周辺のガラス部に当たらないように欠陥領域の内側のみ照射して黒欠陥の縁部を残すようなエッチングを行い、残した欠陥の縁部を高さを固定した原子間力顕微鏡の硬い探針でガラス基板と同じ高さまで物理的に削ることで周辺部のガラスのリバーベッドの全くない修正を特徴とするマスクの黒欠陥修正方法。【請求項2】 請求項1記載のマスクの黒欠陥修正方法において、イオンビームを用いたマスク欠陥修正装置の修正で残したガラス掘り込み型レベンソンマスクの欠陥の縁部を逆位相になるように掘り込んだガラス面と同じ高さまで物理的に削ることで周辺部のガラスのリバーベッドの全くない修正を特徴とするマスクの黒欠陥修正方法。【0001】

F-Term (2)：

2H095BD32 ,  2H095BD35