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J-GLOBAL ID：200903014553595386

基板、その製造方法およびパターン形成方法

Inventor： 神戸 貞男 ,  関 俊一 ,  福島 均 ,  木口 浩史
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998016237
Publication number (International publication number)：1999207959
Application date： Jan. 28, 1998
Publication date： Aug. 03, 1999
Summary：

【要約】【課題】 パターン形成時に、乾燥前の流動体が広がりすぎず乾燥後にパターンが分断されない、インクジェット方式によるパターン形成に適する基板の提供。【解決手段】 所定の流動体12に対し親和性のある親和性領域10と、流動体12に対し親和性のない非親和性領域11と、を備え、親和性領域10が非親和性領域11のなかで、所定のパターン(形状、大きさおよび配列)で配置されることにより、複数の前記親和性領域にまたがる一定の面積に流動体12を連続して付着可能に構成された基板1である。

Claim (excerpt)：

所定の流動体に対し親和性のある親和性領域と、前記流動体に対し親和性のない非親和性領域と、を備え、前記親和性領域が前記非親和性領域のなかで、所定のパターンで配置されることにより、複数の前記親和性領域にまたがる一定の面積に前記流動体を連続して付着可能に構成された基板。

IPC (6)：

B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  H01L 21/30 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/10 ,  H01L 21/02

FI (6)：

B41J 3/04 103 A ,  H01L 21/30 ,  H05K 3/06 A ,  H05K 3/10 C ,  H05K 3/10 D ,  H01L 21/02 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開昭64-005095
  
• 特開昭59-075205
  

Cited by examiner (2)

• 特開昭64-005095
  
• 特開昭59-075205