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J-GLOBAL ID:200903014564933119

露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 平木 祐輔 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996167845
Publication number (International publication number):1998012535
Application date: Jun. 27, 1996
Publication date: Jan. 16, 1998
Summary:
【要約】【課題】 基板ステージの感光基板載置領域内に、駆動機構を必要とせず、感光基板と干渉することのない基準マークを備える。【解決手段】 基準マークを形成した基準板31を基板ステージ15中に埋め込み、基板ステージ上に載置される感光基板16の表面と同じ高さを物点としたときに基準マーク位置が像点となるようにリレーレンズ系32を配置する。
Claim (excerpt):
レチクルに形成されたパターンを感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を載置して2次元方向に移動可能な基板ステージと、前記レチクルと前記感光基板とを位置合わせするためのアライメント系と、前記基板ステージに固定された前記アライメント系較正用の基準マークとを備える露光装置において、前記基準マークはリレーレンズ系とともに前記基板ステージの内部に固定され、前記基準マークは前記リレーレンズ系に関して前記基板ステージ上に載置される感光基板の表面と略共役な位置にあることを特徴とする露光装置。
IPC (2):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2):
H01L 21/30 525 R ,  G03F 7/20 521

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