光導波路形成材料および光導波路

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大井正彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996308868
Publication number (International publication number)：1998148727
Application date： Nov. 20, 1996
Publication date： Jun. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ?@ 透過できる光の波長領域が広く、光伝送損失が小さい光導波路を容易に形成することのできる光導波路形成材料の提供。?A 光導波路を構成する高屈折率層および低屈折率層の屈折率を確実かつ容易に制御することのできる光導波路形成材料の提供。?B 透過できる光の波長領域が広く、光伝送損失が小さい光導波路の提供。?C 高屈折率層および低屈折率層の屈折率が確実に制御されている光導波路の提供。【解決手段】本発明の光導波路形成材料は、ノルボルナジエン構造を有する重合体からなる。本発明の光導波路は、前記光導波路形成材料よりなる薄膜の一部に光を照射して低屈折率層を形成することにより得られる。本発明の光導波路は、ノルボルナジエン含有重合体からなる高屈折率層が、クワドリシクラン構造を有する重合体からなる低屈折率層に挟まれてなる。

Claim (excerpt)：

ノルボルナジエン構造を有する重合体からなることを特徴とする光導波路形成材料。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

屈折率分布型光学材料、及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-339530 Applicant：宮田清藏, 株式会社トリケミカル研究所

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

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