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J-GLOBAL ID：200903014625777638

レジストパターンの製作方法およびこれを用いた液体噴射記録ヘッドの製造方法

Inventor： 横田 雅実
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 阪本 善朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995117930
Publication number (International publication number)：1996292577
Application date： Apr. 19, 1995
Publication date： Nov. 05, 1996
Summary：

【要約】【目的】 三次元的形状精度の高いレジストパターンを製作する。【構成】 基板1にレジスト膜2を設け、フォトマスク3を重ねて露光する。(c)に示すように真空室10内でプラズマによるアッシング処理を行ない、レジスト膜2の膜厚を所定の値tに低減したうえで、現像によってレジスト膜2の露光部分2aを除去してパターン開口4aを有するレジストパターン4を得る。

Claim (excerpt)：

基板に被着されたレジスト膜の膜厚を所定の値に低減する工程と、膜厚を低減したレジスト膜にパターン開口を設ける工程を有するレジストパターンの製作方法。

IPC (3)：

G03F 7/26 ,  B41J 2/16 ,  B41J 2/05

FI (3)：

G03F 7/26 ,  B41J 3/04 103 H ,  B41J 3/04 103 B