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J-GLOBAL ID：200903014635065849
投影露光装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高橋 光男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992349772
Publication number (International publication number)：1994177009
Application date： Dec. 02, 1992
Publication date： Jun. 24, 1994
Summary：
【要約】【目的】 簡単な構成で小型光束を用いて大型基板上へのつなぎ目のない露光を可能とし、高精度のパターンを形成するとともに露光工程を効率良く行いスループットを向上させた投影露光装置を提供する。【構成】 マスク上のパターンを光学系を用いて基板上に露光する投影露光装置において、マスク110を露光する照明光学系121と、該照明光学系121により照射され上記マスク110を透過した光131を基板111に露光する投影光学系122と、前記照明光学系121および前記投影光学系122を上記マスク110および基板111に対して縦横方向に同期して移動させる移動手段と、を備えている。
Claim (excerpt)：
マスク上のパターンを光学系を用いて基板上に露光する投影露光装置において、露光光をマスクに照射する照明光学系と、該照明光学系により照射され上記マスクを透過した光を基板に露光する投影光学系と、前記照明光学系および前記投影光学系を上記マスクおよび基板に対して縦横方向に同期して移動させる移動手段と、を備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (4)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/22
, H05K 3/00
