交差した格子を有するフォトニック結晶およびそれらを作成するための多重露光方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：柳田征史 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000553870
Publication number (International publication number)：2002517803
Application date： Jun. 02, 1999
Publication date： Jun. 18, 2002
Summary：

【要約】同時にまたは順次の2回の干渉縞露光を用いて交差した格子を備えたフォトニック結晶を作成する方法が開示されている。パターン化された交差した格子を備えたフォトニック結晶をフォトリソグラフィによって作成する方法は、不透明フィルム(42)上に乗っているフォトレジスト(44)をフォトマスク(46)を用いて露光してマスク素子を作成し、パターン化されたフォトレジスト(52)をマスクとして用いて、パターン化された金属フィルム(56)を基板(40)上に形成する。次にこのパターン化された金属フィルムを第2のフォトレジスト(58)で覆い、基板(40)の裏面側から二つの干渉縞の露光を同時に行ない、次いで現像して、図(5I)に示されたパターンを形成する。得られた物品は、導波路、カプラ、スプリッタおよび波長分割マルチプレクサに用いることができる。

Claim (excerpt)：

予め選択された波長帯の光に対し透明で、かつ誘電率と、露光閾値と、前記平坦な基板表面と平行な上面とを有する厚いフォトレジスト層を、基板のほぼ平坦な表面にコーティングすることによってフォトニック結晶を作成する方法であって、 a)前記フォトレジスト層の上面上に、予め選択された強度と、幅と、間隔とを有する第1の平行縞からなる干渉パターンを、該干渉縞が前記フォトレジスト層の上面上に乗る態様で、予め選択された時間導き、その場合、前記予め選択された時間および干渉縞強度は、前記フォトレジストの露光閾値レベルよりも低い露光が行なわれるように選択され、前記干渉パターンがレーザー干渉計によって形成され、該レーザー光が前記フォトレジストに対して少なくとも半透過性を有する波長を有し、 b)前記フォトレジスト層の上面上に、予め選択された強度と、幅と、間隔とを有する少なくとも第2の平行縞からなる干渉パターンを、予め選択された時間導き、その場合、前記予め選択された時間および干渉縞強度が前記フォトレジストの露光閾値レベルよりも低い露光が行なわれるように選択され、前記干渉パターンがレーザー干渉計によって形成され、該レーザー光が前記フォトレジストに対して少なくとも半透過性の波長を有し、前記第1の干渉縞パターンが前記少なくとも第2の干渉縞パターンに対し前記フォトレジスト表面の少なくとも一部分に亘って交差して、該交差干渉縞間に予め選択された角度が形成され、前記第1および少なくとも第2の干渉縞パターンによる露光の総量が前記フォトレジストの露光閾値よりも大きくされ、 c)前記フォトレジストを現像し、該フォトレジストの前記閾値レベルを超える露光を受けた部分を除去して、前記第1および第2の干渉パターンの交差表面部分に亘ってフォトレジスト材料からなる対称的な突起の周期アレイを形成する、各工程を含むことを特徴とする方法。

IPC (3)：

G02B 1/02 , G02B 6/12 , G03F 7/20 501

FI (4)：

G02B 1/02 , G03F 7/20 501 , G02B 6/12 N , G02B 6/12 Z

F-Term (13)：

2H047KA02 , 2H047KA03 , 2H047PA02 , 2H047PA03 , 2H047PA21 , 2H047PA22 , 2H047PA24 , 2H047TA05 , 2H097AA20 , 2H097BB01 , 2H097CA06 , 2H097CA17 , 2H097LA17

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