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J-GLOBAL ID：200903014669927955

機能性薄膜積層体

Inventor： 伊藤 彰浩 ,  佐藤 新治
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー ,  リコー応用電子研究所株式会社
Agent (1)： 友松 英爾 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992023180
Publication number (International publication number)：1993186298
Application date： Jan. 13, 1992
Publication date： Jul. 27, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 単結晶基上に薄膜を形成する薄膜積層体製造において、中間層材料を多様することにより、デバイスの材料も多様化可能となし、安価にして高性能薄膜積層体を提供する。【構成】 (イ)SiまたはGeの少なくとも1種を含有する単結晶基板、(ロ)その上に形成されたLi,Be,Mg,Ca,Sr,Ba,Sc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Sm,Eu,Tb,Tm,Yb,Al,Ti,Zr,Hf,Th,V,Ta,よりなる群から選らばれた金属元素の少なくとも1種の金属酸化物よりなる中間層、(ハ)中間層上に形成された機能性酸化物薄膜よりなる。中間層(ロ)は、結晶面内において、(i)4個の金属原子配置が1辺5.1〜6.1Åまたは3.5〜4.4Åの四角形をなし、(ii)4個の酸素原子配置が一辺3.5〜4.8Åまたは2.5〜3.4Åの四角形をなす。

Claim (excerpt)：

(イ)SiまたはGeの少なくとも1種を含有する単結晶基板、(ロ)その上に形成されたLi,Be,Mg,Ca,Sr,Ba,Sc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Sm,Eu,Tb,Tm,Yb,Al,Ti,Zr,Hf,Th,V,Ta,よりなる群から選らばれた金属元素の少なくとも1種の金属酸化物よりなる中間層、(ハ)前記中間層上に形成された機能性酸化物薄膜よりなる機能性薄膜積層体。

IPC (2)：

C30B 29/22 ,  H01L 21/84

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平3-295983