Pat
J-GLOBAL ID:200903014670521768
サウナ装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
岩橋 文雄
, 坂口 智康
, 内藤 浩樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004206919
Publication number (International publication number):2006025966
Application date: Jul. 14, 2004
Publication date: Feb. 02, 2006
Summary:
【課題】微細な水滴によって水滴感を伴わずにサウナ対象室103を加湿するとともに加熱することによって、使用者が水滴感を感じずにサウナ対象室103内で快適に過ごすことができるとともに、ミストによって使用者が視界を遮られることなく、サウナ対象室103内で映像や読書を楽しむことができるサウナ装置を提供する。【解決手段】サウナ対象室103の空気を循環させる第1循環手段1および第2循環手段2と、供給空気を加熱する空気加熱手段107と、供給水を細かな水滴に破砕する水破砕手段3を備え、第1循環手段1により循環するサウナ対象室103の空気を空気加熱手段107で加熱することによってサウナ対象室103を加熱するとともに、第2循環手段2によって循環するサウナ対象室103の空気に水破砕手段3で発生した細かな水滴を含ませることによって、水滴感を伴わずにサウナ対象室103を加湿する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
サウナ対象室103の空気を循環させる第1循環手段1および第2循環手段2と、供給空気を加熱する空気加熱手段107と、供給水を細かな水滴に破砕する水破砕手段3を備え、前記第1循環手段1により循環するサウナ対象室103の空気を前記空気加熱手段107で加熱することによってサウナ対象室103を加熱するとともに、前記第2循環手段2によって循環するサウナ対象室103の空気に前記水破砕手段3で発生した水滴を含ませることによってサウナ対象室103を加湿することを特徴とするサウナ装置。
IPC (1):
FI (2):
A61H33/06 Q
, A61H33/06 F
F-Term (11):
4C094AA01
, 4C094BA18
, 4C094DD01
, 4C094DD08
, 4C094EE04
, 4C094EE05
, 4C094EE12
, 4C094FF02
, 4C094GG03
, 4C094GG04
, 4C094GG16
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
-
ミスト装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-146549
Applicant:株式会社ハーマン企画
-
浴用ミスト装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-146630
Applicant:株式会社ハーマンプロ
-
サウナ用熱交換器及びサウナ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-276561
Applicant:中村昌子
-
空気調和装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-099318
Applicant:高砂熱学工業株式会社
-
スチームサウナ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-109247
Applicant:東京瓦斯株式会社
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Cited by examiner (4)
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浴用ミスト装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-146630
Applicant:株式会社ハーマンプロ
-
サウナ用熱交換器及びサウナ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-276561
Applicant:中村昌子
-
空気調和装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-099318
Applicant:高砂熱学工業株式会社
-
スチームサウナ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-109247
Applicant:東京瓦斯株式会社
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