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J-GLOBAL ID：200903014682774432

有機EL素子

Inventor： 荒井 三千男 ,  小堀 勇 ,  三橋 悦央
Applicant, Patent owner： ティーディーケイ株式会社
Agent (1)： 石井 陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999018776
Publication number (International publication number)：2000223272
Application date： Jan. 27, 1999
Publication date： Aug. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 電子/ホール注入効率に優れ、発光効率が改善され、動作電圧が低く、しかも低コストな有機EL素子を実現する。【解決手段】 ホール注入電極と、電子注入電極と、これらの電極間に設けられた1種以上の少なくとも1層は発光機能を有する有機層とを有し、この有機層と電子注入電極の間には、第1成分としてアルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、ランタノイド系元素から選択される1種以上の酸化物と、第2成分として仕事関数3〜5eVの金属の1種以上の元素とを含有し、ホールをブロックし、電子を搬送するための導通パスを有する高抵抗の無機電子注入層を有し、前記発光層とホール注入電極との間には、シリコンおよび/またはゲルマニウムの酸化物を主成分とし、主成分の平均組成を、(Si1-xGex)Oyと表したとき0≦x≦11.7≦y≦1.99である無機絶縁性ホール注入輸送層を有する有機EL素子とした。

Claim (excerpt)：

ホール注入電極と、陰電極と、これらの電極間に設けられた1種以上の有機層とを有し、少なくとも前記有機層の1層は発光機能を有し、この発光層と陰電極の間には、高抵抗の無機電子注入層を有し、この高抵抗の無機電子注入層は、第1成分として仕事関数4eV以下であって、アルカリ金属元素、およびアルカリ土類金属元素、およびランタノイド系元素から選択される1種以上の酸化物と、第2成分として仕事関数3〜5eVの金属の1種以上とを含有し、かつ、ホールをブロックするとともに電子を搬送するための導通パスを有し、前記発光層とホール注入電極との間には無機絶縁性ホール注入輸送層を有し、この無機絶縁性ホール注入輸送層は、シリコンおよび/またはゲルマニウムの酸化物を主成分とし、ラザフォード後方散乱により得られる主成分の平均組成を、(Si1-xGex)Oyと表したとき0≦x≦11.7≦y≦1.99である有機EL素子。

IPC (2)：

H05B 33/22 ,  H05B 33/14

FI (3)：

H05B 33/22 A ,  H05B 33/22 C ,  H05B 33/14 A

F-Term (11)：

3K007AB03 ,  3K007AB06 ,  3K007AB18 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EA02 ,  3K007EC00 ,  3K007EC03 ,  3K007FA01