新規高分子化合物、該高分子前駆体、および該高分子前駆体を用いた薄膜形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002081230
Publication number (International publication number)：2003252992
Application date： Mar. 22, 2002
Publication date： Sep. 10, 2003
Summary：

【要約】【課題】多官能アミノ化合物をモノマーとして用いても、合成途中でゲル化することなく、ポリイミド薄膜を容易に製造するための前駆体を提供することである。【解決手段】特定の多官能アミンとテトラカルボン酸ジエステルとの塩の溶液からポリイミドを得る。【効果】ポリイミド前駆体およびその溶液は、多官能アミノ化合物を用いてもゲル化の心配がなく、3次元構造を有するポリイミド薄膜を容易に製造できた。

Claim (excerpt)：

式(1)で示される多官能アミンと、【化1】(式(1)において、Aは4価の有機基であり、nは0〜3の整数である。)式(2)で示されるテトラカルボン酸ジエステルとの塩。【化2】(式(2)において、Bは炭素数1〜20の4価有機基であり、R1およびR2はそれぞれ、独立に、炭素数1〜5のアルキル基を表す。)

IPC (6)：

C08G 73/10 , C08J 5/18 CFG , H01B 3/30 , H01B 17/56 , H01L 21/312 , C08L 77:00

FI (8)：

C08G 73/10 , C08J 5/18 CFG , H01B 3/30 D , H01B 3/30 M , H01B 17/56 A , H01B 17/56 L , H01L 21/312 B , C08L 77:00

F-Term (44)：

4F071AA60 , 4F071AF39 , 4F071AH12 , 4F071AH13 , 4F071BA02 , 4F071BB02 , 4F071BC01 , 4F071BC02 , 4J043PA13 , 4J043QB39 , 4J043RA34 , 4J043RA35 , 4J043RA37 , 4J043SA08 , 4J043SA46 , 4J043SB01 , 4J043TA14 , 4J043TB01 , 4J043UA081 , 4J043UA121 , 4J043UA122 , 4J043UB121 , 4J043ZA46 , 4J043ZB11 , 5F058AA10 , 5F058AC02 , 5F058AF04 , 5F058AF06 , 5F058AG01 , 5F058AH02 , 5G305AA06 , 5G305AA07 , 5G305AA11 , 5G305AB10 , 5G305BA04 , 5G305CA21 , 5G305CB15 , 5G305CB17 , 5G333AA01 , 5G333AB13 , 5G333CA03 , 5G333CB01 , 5G333DA07 , 5G333DA11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

層間絶縁膜、その形成方法及び配線の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-070745 Applicant：松下電器産業株式会社
有機絶縁膜材料、その製造方法、有機絶縁膜の形成方法、及び、有機絶縁膜を設けた半導体装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-059890 Applicant：富士通株式会社
特開昭59-144732

Show all

Return to Previous Page