Pat

J-GLOBAL ID：200903014732844240

溶液層の処理方法

Inventor： 八木 績 ,  奥谷 昌之
Applicant, Patent owner： 株式会社河合楽器製作所
Agent (2)： 山本 孝久 ,  吉井 正明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007232212
Publication number (International publication number)：2009064993
Application date： Sep. 07, 2007
Publication date： Mar. 26, 2009
Summary：

【課題】液相中で、常温、常圧にて、例えば基体上に薄膜を成膜し、あるいは又、基体表面を処理するための溶液層の処理方法を提供する。【解決手段】溶液層の処理方法は、基体10の表面(第1面11)に例えば塗布された溶液層20に放電用電極30を用いて誘電体バリア放電処理を施す。これによって、例えば、溶液層中に固相体を析出させることができるし、あるいは又、基体10の表面11を清浄化することができる。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

基体の表面上の溶液層に誘電体バリア放電処理を施すことを特徴とする溶液層の処理方法。

IPC (5)：

H01L 21/288 ,  H01L 21/768 ,  H01L 23/522 ,  H01L 21/320 ,  H05H 1/24

FI (4)：

H01L21/288 Z ,  H01L21/90 L ,  H01L21/88 B ,  H05H1/24

F-Term (16)：

4M104BB06 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB36 ,  4M104DD51 ,  4M104EE14 ,  4M104EE16 ,  5F033HH07 ,  5F033HH13 ,  5F033HH14 ,  5F033HH35 ,  5F033PP26 ,  5F033RR01 ,  5F033RR03 ,  5F033SS21 ,  5F033SS30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 金属酸化物薄膜及びその製造方法
  Gazette classification：再公表公報   Application number：JP2002010181   Applicant：株式会社先端技術インキュベーションシステムズ
• 透明導電膜の形成方法及び透明導電膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-229009   Applicant：住友大阪セメント株式会社, 株式会社栗田製作所
• 透明導電膜の形成方法及び透明導電膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-229008   Applicant：住友大阪セメント株式会社