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J-GLOBAL ID：200903014737267322
指紋照合処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
森田 寛 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992129202
Publication number (International publication number)：1993324803
Application date： May. 22, 1992
Publication date： Dec. 10, 1993
Summary：
【要約】【目的】本発明は、指紋センサが読み取った濃淡画像を2値化して、この2値化画像から指紋の持つ特徴点を検出していくことで、指紋の照合処理を実行する構成を採る指紋照合処理装置に関し、擬似特徴点をもたらす長い島を濃淡画像から確実に除去できるようにすることを目的とする。【構成】濃淡画像の濃度のつながりから指紋の持つ隆線部分と谷線部分とを検出する検出手段18と、この検出手段18により検出された隣接する2つの隆線の間に谷線が存在するか否かを判断する判断手段21と、この判断手段21が谷線の不存在を判断するときに、その不存在部分の濃淡画像の濃度を谷線の持つ濃度方向に変更する変更手段22とを備えるように構成する。
Claim (excerpt)：
指紋センサが読み取った濃淡画像を2値化して、該2値化画像から指紋の持つ特徴点を検出していくことで、指紋の照合処理を実行する構成を採る指紋照合処理装置において、濃淡画像の濃度のつながりから指紋の持つ隆線部分と谷線部分とを検出する検出手段(18)と、上記検出手段(18)により検出された隆線部分内の長さが規定長に達しないものについては、擬似的な隆線部分であるとみなして、その部分の濃淡画像の濃度を谷線の持つ濃度方向に変更する濃度変更手段(19)とを備えることを、特徴とする指紋照合処理装置。
Patent cited by the Patent：
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