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J-GLOBAL ID：200903014756984353
投影露光方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995193189
Publication number (International publication number)：1996102440
Application date： May. 13, 1988
Publication date： Apr. 16, 1996
Summary：
【要約】【課題】 経時変化する撮影光学系のピント変化とレジスト厚やウエハ段差による焼付け最良位置の変化双方の影響を受けずにウエハを焼付け最良位置に位置ずける方法。【解決手段】 TTLフォーカス系により、投影光学系のピント位置を検出し、そのピント位置をオフアクシスのオートフォーカス系の位置基準とし、更に基準位置と焼付け最良位置とのオフセットを記憶して、オフアクシスのオートフォーカス系でウエハを位置ずけする際、基準位置とオフセットを用いて行う。
Claim (excerpt)：
回路パターンを投影光学系を介しレジストが塗布されたウエハ上に投影露光する投影露光方法において、前記投影光学系の画面領域内の検出領域に位置いるパターンを照明し、前記パターンからの光を前記投影光学系を介して反射面に入射させ、該反射面からの反射光を前記投影光学系と前記パターンとを介して受光し、受光された光量に基づいて前記投影光学系における前記検出領域のピント位置を検出するピント位置検出段階と;前記ピント位置検出段階から得られるピント位置を前記検出領域に位置するウエハの前記投影光学系の光軸方向に関する面位置を検出する面位置検出手段の基準位置に設定する段階と;前記面位置検出手段により前記基準位置に位置させるウエハの位置と、実際に露光される際、焼きつけられる回路パターンが最良となるウエハの焼付け最良位置とのオフセットを記憶する段階と;前記面位置検出手段によりウエハの面位置を検出して、前記オフセットと前記基準位置とにより決まる位置にウエハを位置させて、前記回路パターンと前記ウエハに投影露光する段階と、を有することを特徴とする投影露光方法。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 7/207
, G03F 9/00
Cited by examiner (5)
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