Pat
J-GLOBAL ID:200903014765824423
反射防止膜又は光吸収膜用組成物及びこれに用いる重合体
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鐘尾 宏紀 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997275652
Publication number (International publication number):1999109640
Application date: Oct. 08, 1997
Publication date: Apr. 23, 1999
Summary:
【要約】【目的】 100〜450nmに良好な光吸収を示し、フッティング、インターミキシングがなく、保存安定性、ステップカバレッジ性に優れた反射防止膜又は光吸収膜用組成物及びこれに用いる新規共重合体を提供する。【構成】 主鎖の炭素原子に結合されたカルボキシル基に、(1)100〜450nmの波長域の光を吸収するアミノ又はヒドロキシル基含有有機発色団が、直接又は-R1 NHCXY-基(R1 はアルキレン基を、XはO又はSを、YはO又はNR6 基で、R6 はH、置換又は非置換の、直鎖又は環状アルキル基又はフェニレン基を表す。)を介して反応結合された繰り返し単位と、(2)二重結合又はエポキシ基を有するアルキル基が反応結合されてなる繰り返し単位とを少なくとも有するアクリル系或いはメタクリル系共重合体を含有する底面反射防止膜又は光吸収用膜組成物。
Claim (excerpt):
下記一般式Iで表される重合体を含有する反射防止膜又は光吸収膜用組成物。一般式I【化1】(式中、Rは、水素原子又はアルキル基であり、R1 は、アルキレン基、置換アルキレン基、シクロアルキレン基、置換シクロアルキレン基、フェニレン基又は置換フェニレン基であり、R2 は、置換されていてもよいビニル基含有フェニル基、-OR4 又は-COOR4 で、R4 は、二重結合又はエポキシ基を有するアルキル基であり、R3 は、ハロゲン原子、シアノ基、アセテート基、-COOH、-CONH2 、置換又は非置換のフェニル基、-COOR5 又は-OR5 で、R5 は、置換又は非置換の、直鎖、環状又は分岐アルキル基、エステル又はカルボニル基含有アルキル基又はアリール基であり、Xは、O又はSであり、Yは、O又はNR6 基で、R6 は、水素原子、置換されていてもよい、フェニル基又は環状、直鎖又は分岐アルキル基であり、Dは、露光波長(100〜450nm)を吸収する有機発色団であり、直接又はアルキレン基を介して結合された、置換又は非置換の、ベンゼン環、縮合環又は複素環を表し、m及びnは0より大きい任意の数であり、oは0を含む任意の数である。)
IPC (3):
G03F 7/11
, G03F 7/004 506
, H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/11
, G03F 7/004 506
, H01L 21/30 574
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
特開昭58-103512
-
紫外線吸収剤の溶出のないハ-ドコンタクトレンズ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-212667
Applicant:株式会社東京計画
-
耐光性ラテックス組成物およびラテックスから製造される製品の耐光性改良方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-300994
Applicant:一方社油脂工業株式会社
-
軟性眼内レンズ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-035228
Applicant:ホーヤ株式会社
-
ハレーション止め組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-328816
Applicant:シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
-
反射防止組成物及びレジストパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-070236
Applicant:三菱化学株式会社
Show all
Return to Previous Page