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J-GLOBAL ID：200903014782021938

井戸水処理方法とその装置

Inventor： 廣田 行男
Applicant, Patent owner： 栃木電子工業株式会社
Agent (1)： 前原 清美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000179101
Publication number (International publication number)：2001321777
Application date： May. 12, 2000
Publication date： Nov. 20, 2001
Summary：

【要約】【課題】井戸水中の微生物等雑菌を殺菌するとともに、それらの栄養源となる水生植物等の有機物を除去し、電子部品等の洗浄水として使用できる処理水にする井戸水処理方法と装置を本発明の課題とする。【解決手段】 本発明は、地下水を汲み上げて原水槽2に貯留し、その水を塩素殺菌槽3へ送り、そこで塩素殺菌処理し、殺菌処理された水をセラミック塔4へ送り、そのセラミック塔4内には遠赤外線放射体のセラミック粒子をネットの上に装填しており、殺菌処理された水はセラミック粒子間を通過する時、遠赤外線処理により不純物が分離され、水のクラスターを小さくし、その水は急速除鉄槽5へ送られ、その急速除鉄槽5内には砂を充填しており、不純物が分離された水が砂間を通過するとき不純物を濾過し、鉄分を吸着し、そこで濾過、除鉄された処理水を活性炭処理水槽6へ送り、そこでは急速除鉄槽5で取り除けなかった不純物を活性炭により吸着し、そこから工場に給水させてなる井戸水処理方法である。

Claim (excerpt)：

汲み上げた地下水を塩素殺菌槽3へ送り、そこで塩素殺菌処理し、殺菌処理された水をセラミック塔4へ送り、そのセラミック塔4内には遠赤外線放射体のセラミック粒子をネットの上に装填しており、殺菌処理された水はセラミック粒子間を通過する時、遠赤外線処理により水の不純物が分離され、水のクラスターを小さくしてなる井戸水処理方法。

IPC (11)：

C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 ZAB ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/64

FI (12)：

C02F 1/50 520 B ,  C02F 1/50 ZAB ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 531 M ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 H ,  C02F 1/50 560 B ,  C02F 1/50 560 C ,  C02F 1/50 560 Z ,  C02F 1/28 D ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/64 A

F-Term (16)：

4D024AA01 ,  4D024AB16 ,  4D024BA02 ,  4D024BC01 ,  4D024DB03 ,  4D037AA01 ,  4D037AB08 ,  4D037BA17 ,  4D037CA01 ,  4D037CA02 ,  4D037CA16 ,  4D038AA02 ,  4D038AB66 ,  4D038BB06 ,  4D038BB07 ,  4D038BB17