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J-GLOBAL ID：200903014805899839

洗浄装置及び洗浄方法

Inventor： 中嶋 敏 ,  上川 裕二 ,  上野 欽也
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997259026
Publication number (International publication number)：1998154689
Application date： Sep. 24, 1997
Publication date： Jun. 09, 1998
Summary：

【要約】【課題】 乾燥処理の際に薬液処理による悪影響を受けることがなく、また乾燥室の肉厚を薄くすることができ、減圧するために使用する真空ポンプ等の低出力化を図ることができる洗浄装置及び洗浄方法の提供。【解決手段】 乾燥室42と洗浄槽41とをそれぞれ上下に分離すると共に、乾燥室42の空間と洗浄槽41の空間とを回転扉59a及びスライド扉72により遮蔽可能とし、洗浄槽41での洗浄処理を回転扉59aで遮蔽して、乾燥室42での乾燥処理をスライド扉72で密閉・遮蔽して行うように構成した。

Claim (excerpt)：

処理液を貯留し、貯留した処理液に被処理基板が浸漬される処理槽と、前記処理槽の上方に配置され、処理槽との間で被処理基板を移送するための開閉自在な開口部が設けられた乾燥室と、前記開口部を介して前記処理槽と前記乾燥室との間で被処理基板を移送する移送手段と、前記乾燥室内を有機溶剤の雰囲気にする手段とを具備することを特徴とする洗浄装置。

IPC (2)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 361

FI (2)：

H01L 21/304 351 C ,  H01L 21/304 361 V

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 乾燥処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-223932   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 特開平4-251930
  
• 特開平3-236232
  
• 特開昭64-081230