Pat

J-GLOBAL ID：200903014834525948

シャドウマスクの製造方法

Inventor： 上村 敏文 ,  城ノ下 幸慶
Applicant, Patent owner： 東洋インキ製造株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992316049
Publication number (International publication number)：1994150814
Application date： Oct. 30, 1992
Publication date： May. 31, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 シャドウマスク素材の2次エッチングに先立ち、エッチング抵抗性水性型材料を塗布する場合に、塗膜の気泡および破れの発生を低減し、高品位なシャドウマスクを製造する方法を提供する。【構成】 シャドウマスク素材の片面に浅い凹状の大孔部4、もう一方に浅い凹状の小孔部3を形成したのち、シャドウマスク素材を40〜80°Cに保ちながら、小孔部形成面に、エッチング液に抵抗性を有する水性材料5を塗布する工程を具備する。【効果】 塗膜欠陥を減少させシャドウマスクの孔径異常を改善できる。

Claim (excerpt)：

シャドウマスク素材の片面に浅い凹状の大孔部、もう一方に浅い凹状の小孔部を形成したのち、シャドウマスク素材を40〜80°Cに保ちながら、小孔部形成面に、エッチング液に抵抗性を有する水性材料を塗布する工程を少なくとも具備することを特徴とするシャドウマスクの製造方法。