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J-GLOBAL ID：200903014861197448
水素ガス等の製造方法及びその装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
須田 正義
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999366377
Publication number (International publication number)：2000239672
Application date： Dec. 24, 1999
Publication date： Sep. 05, 2000
Summary：
【要約】【課題】 複雑なプロセスを要することなく、高純度の水素ガスを製造する。副生物である高純度の液化二酸化炭素を回収する。【解決手段】 反応器10の領域11にて300〜650°C、7〜35MPaで炭素資源を亜臨界或いは超臨界水と反応させて炭素資源の熱分解と加水分解により軽質化されたガス、油分及び残渣を生成する。領域12にて650〜1200°C、7〜35MPaで上記ガス、油分及び残渣を亜臨界或いは超臨界水と反応させて水素、二酸化炭素、一酸化炭素及びメタンを主成分とするガスを生成する。領域13にて450〜1000°C、7〜35MPaで上記ガスを水素及び二酸化炭素を主成分とするガスに転換する。領域12に酸化剤を添加してガス、油分、残渣の一部を燃焼させることにより領域11,12に必要な熱を補充するとともに領域13が領域11への熱交換及び吸熱反応により冷却される。
Claim (excerpt)：
反応器(10)の第1反応領域(11)において温度300〜650°C、圧力7〜35MPaで原料である炭素資源を亜臨界或いは超臨界水と反応させて前記炭素資源の熱分解又は加水分解のいずれか一方又は双方を行うことにより軽質化されたガス、油分及び残渣を生成し、前記反応器(10)の第2反応領域(12)において温度650〜1200°C、圧力7〜35MPaで前記軽質化されたガス、油分及び残渣を亜臨界或いは超臨界水と反応させて更に軽質化及びガス化することにより、水素、二酸化炭素、一酸化炭素及びメタンを主成分とするガスを生成し、前記反応器(10)の第3反応領域(13)において温度450〜1000°C、圧力7〜35MPaで前記ガスを水素及び二酸化炭素を主成分とするガスに転換する水素ガス等の製造方法であって、前記第2反応領域(12)に酸化剤を添加してガス、油分、残渣の一部を燃焼させることにより前記第1及び第2反応領域(11,12)に必要な熱を補充するとともに前記第3反応領域(13)が前記第1反応領域(11)への熱交換及び吸熱反応により冷却されることを特徴とする水素ガス等の製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
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