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J-GLOBAL ID：200903014866446659

低級オレフィンの製造法

Inventor： 水上 富士夫 ,  葭村 雄二 ,  村田 和久 ,  早川 孝 ,  鈴木 邦夫 ,  塩沢 光治 ,  又野 孝一 ,  涌井 顕一 ,  佐藤 浩一 ,  澤田 悟郎
Applicant, Patent owner： 工業技術院長 ,  社団法人日本化学工業協会 ,  出光石油化学株式会社 ,  東燃化学株式会社 ,  日本石油化学株式会社 ,  丸善石油化学株式会社
Agent (2)： 池浦 敏明 (外1名) ,  池浦 敏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998062294
Publication number (International publication number)：1999246446
Application date： Feb. 26, 1998
Publication date： Sep. 14, 1999
Summary：

【要約】【課題】 触媒を用いて炭化水素原料を接触分解してエチレン、プロピレン等の低級オレフィンを製造するに際し、触媒が反応条件下で水蒸気、炭酸ガスに対し安定であり、かつ芳香族炭化水素、重質物等の副生成物の生成を抑制し、低級オレフィンをエネルギーコスト的に有利に製造する方法を提供する。【解決手段】 炭化水素原料を、一般式M2O2CO3(式中、Mは希土類元素を示す)で表される希土類元素オキシカーボネート触媒を使用し、酸素の存在下に接触分解させることを特徴とする低級オレフィンの製造方法。

Claim (excerpt)：

炭化水素原料を、一般式M2O2CO3(式中、Mは希土類元素を示す)で表される希土類元素オキシカーボネートからなる触媒を使用し、酸素の存在下に接触分解させることを特徴とする低級オレフィンの製造方法。

IPC (7)：

C07C 11/04 ,  B01J 27/232 ,  C07C 4/06 ,  C07C 11/06 ,  C10G 11/04 ,  C10G 35/06 ,  C07B 61/00 300

FI (7)：

C07C 11/04 ,  B01J 27/232 Z ,  C07C 4/06 ,  C07C 11/06 ,  C10G 11/04 ,  C10G 35/06 ,  C07B 61/00 300

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平1-143838