Pat
J-GLOBAL ID:200903014876238671
ポジ型感光性樹脂組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
萩野 平 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998147689
Publication number (International publication number):1999338152
Application date: May. 28, 1998
Publication date: Dec. 10, 1999
Summary:
【要約】【課題】 深紫外線、特にArF エキシマレーザー光に対して、特に残膜率、レジストプロファイルが優れ、現像欠陥の問題を生じないとともに、半導体製造プロセス上安定性の優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 環状脂肪族炭化水素骨格構造を含み、酸の作用により分解してアルカリ可溶性となる重合体、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、分子内に含窒素塩基性基と酸性基とを含む化合物、及びフッソ系及び/またはシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。
Claim (excerpt):
(A)環状脂肪族炭化水素骨格構造を含み、酸の作用により分解してアルカリ可溶性となる重合体、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)分子内に含窒素塩基性基と酸性基とを含む化合物、及び(D)フッソ系及び/又はシリコン系界面活性剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
IPC (6):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 504
, G03F 7/20 502
, H01L 21/027
, C08L 45/00
FI (6):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 504
, G03F 7/20 502
, C08L 45/00
, H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (14)
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-352621
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-226175
Applicant:日本合成ゴム株式会社
-
レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-261054
Applicant:日本ゼオン株式会社
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遠紫外線露光用フォトレジスト組成物およびその使用方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-128606
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
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新規アクリルモノマー、新規アクリルポリマー、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-074295
Applicant:日本ゼオン株式会社
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-008306
Applicant:京セラ株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-018290
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-074718
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-074717
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-347330
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-246873
Applicant:信越化学工業株式会社
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ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-130829
Applicant:日本電信電話株式会社, 信越化学工業株式会社
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-037541
Applicant:日本電信電話株式会社, 信越化学工業株式会社
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新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパタ-ン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-128044
Applicant:信越化学工業株式会社
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