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J-GLOBAL ID：200903014884749383

酸化チタンを含む細線の製造方法、該製造方法により製造された細線および構造体

Inventor：
岩崎 達哉

About 岩崎 達哉

, 
田 透

About 田 透


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 渡辺 徳廣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999310601
Publication number (International publication number)：2000203998
Application date： Nov. 01, 1999
Publication date： Jul. 25, 2000
Summary：
【要約】【課題】 結晶性に優れ、ナノサイズの径を有する酸化チタンを含む細線、特には酸化チタンウィスカーの製造方法を提供する。【解決手段】 チタンを含む表面11を有する基体10を用意する第一の工程(a)と、前記表面にチタンとは異なる材料13を離散的に配置する第二の工程(b)と、チタンを酸化する雰囲気中で、前記第二の工程を施した前記チタンを含む表面を熱処理して酸化チタンを含む細線15を形成する第三の工程(c)を有する酸化チタンを含む細線の製造方法。
Claim (excerpt)：
(A)チタンを含む表面を有する基体を用意する第一の工程、(B)前記表面に、チタンとは異なる材料を離散的に配置する第二の工程、(C)チタンを酸化する雰囲気中で、前記第二の工程を施した前記チタンを含む表面を熱処理して酸化チタンを含む細線を形成する第三の工程を有することを特徴とする酸化チタンを含む細線の製造方法。
IPC (2)：
C30B 29/62 ,  H01L 31/04
FI (2)：
C30B 29/62 C ,  H01L 31/04 M
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (13)
  • 特公昭39-003409
  • 酸化銅ウイスカーの製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-246452   Applicant：株式会社インターナシヨナルソフトウエア
  • 特公昭39-003409
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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