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J-GLOBAL ID：200903014913291430

ハイスループット合成システム及び該システムを自動で行うための合成装置

Inventor： 遠藤 弥重太 ,  澤崎 達也 ,  小笠原 富夫 ,  森下 了 ,  佐伯 美帆呂 ,  佐藤 智久 ,  北本 綾
Applicant, Patent owner： 株式会社セルフリーサイエンス
Agent (1)： 庄司 隆
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2004005912
Publication number (International publication number)：WO2004097014
Application date： Apr. 23, 2004
Publication date： Nov. 11, 2004
Summary：

タンパク質やRNAなどの生体高分子のハイスループットな試験管内合成反応法のシステム技術を開発する。詳しくは、鋳型物質を原料にする合成系であって、以下の手段、その制御手段、又はその組合せを含むことを特徴とする無細胞系合成システム及び該システムを用いた自動合成機;1)鋳型物質、基質、及び反応溶液を接触させて合成反応系に導く。2)合成速度の略低下前後又は合成反応の略停止前後、又はそれらの途上に、反応系を合成反応系外におき溶液の希釈処理をする。3)希釈処理に続いて、濃縮処理を行う。4)反応系を合成反応系に戻す。又は1)鋳型物質、基質、及び反応溶液を接触させて合成反応に導く。2)合成速度の略低下前後、合成反応の略停止前後、又はそれらの途上に、反応系を合成反応系外におき溶液を濃縮処理する。3)濃縮処理に続いて希釈処理を行う。4)希釈された反応系を合成反応系に戻す。

Claim (excerpt)：

鋳型物質を原料にする合成系であって、以下の手段、その制御手段、又はその組合せを含むことを特徴とする無細胞系合成システム; 1)鋳型物質、基質、及び反応溶液を接触させて合成反応に導く。 2)合成速度の略低下前後、合成反応の略停止前後、又はそれらの途上に、反応溶液を希釈処理する。 3)希釈処理に続いて濃縮処理を行う。 4)濃縮された反応系によって合成反応をおこなう。 又は 1)鋳型物質、基質、及び反応溶液を接触させて合成反応に導く。 2)合成速度の略低下前後、合成反応の略停止前後、又はそれらの途上に、反応溶液を濃縮処理する。 3)濃縮処理に続いて希釈処理を行う。 4)希釈された反応系によって合成反応をおこなう。

IPC (3)：

C12P 21/02 ,  C12M 1/00 ,  C12N 15/09

FI (3)：

C12P21/02 C ,  C12M1/00 A ,  C12N15/00 A

F-Term (25)：

4B024AA01 ,  4B024AA03 ,  4B024AA19 ,  4B024AA20 ,  4B024BA80 ,  4B024CA02 ,  4B024CA12 ,  4B024DA20 ,  4B024GA11 ,  4B024HA20 ,  4B029AA23 ,  4B029BB20 ,  4B029CC01 ,  4B064AG01 ,  4B064CA01 ,  4B064CA19 ,  4B064CA50 ,  4B064CC01 ,  4B064CC24 ,  4B064CD12 ,  4B064CD13 ,  4B064CD30 ,  4B064CE03 ,  4B064CE06 ,  4B064DA01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 無細胞タンパク質合成方法
  Gazette classification：再公表公報   Application number：JP2001007356   Applicant：遠藤弥重太
• 汎用性および高効率機能を備えた鋳型分子およびこれを利用する無細胞タンパク質合成手段
  Gazette classification：再公表公報   Application number：JP2000007123   Applicant：和研薬株式会社