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J-GLOBAL ID:200903014913791092

多点地盤注入工法および装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 染谷 仁
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998217828
Publication number (International publication number):2000045259
Application date: Jul. 31, 1998
Publication date: Feb. 15, 2000
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 地盤状況が各層毎に異なる地盤に対して、最適な注入を行う。【構成】 複数の注入管を地盤中に配置し、それぞれの吐出口から地盤改良材を地盤中に注入するに当り、一プラント中に多数のユニットポンプ22を備えた多連装ポンプ21により改良材を各注入管に圧送し、吐出口から地盤中に注入する。また、ユニットポンプ22は、地盤改良材の吸引口27及び吐出口28を有するシリンダー29、並びにサンクションバルブ34を有するピストン33を有する。
Claim (excerpt):
複数の注入管を地盤中に配置し、これら複数の注入管を通してそれぞれの吐出口から地盤改良材を地盤中に注入するに当り、一プラント中に多数のユニットポンプを備えた多連装ポンプにより前記改良材を各注入管に圧送し、吐出口から地盤中に注入することを特徴とする多点地盤注入工法。
F-Term (19):
2D040AA01 ,  2D040AB01 ,  2D040AC02 ,  2D040BB01 ,  2D040BD01 ,  2D040BD06 ,  2D040CA10 ,  2D040CB03 ,  2D040CC01 ,  2D040CD06 ,  2D040CD08 ,  2D040CD09 ,  2D040DA02 ,  2D040DA04 ,  2D040DA17 ,  2D040DC01 ,  2D040EA27 ,  2D040FA07 ,  2D040FA15

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